Чрез непрестанните усилия на всички служители на компанията, ние обединихме и продължихме работния стил на преодоляване на трудностите и смелостта да предизвикаме трудната работа и успешно въведохме различни видове проекти за полупроводникови изпитателни платки за много трудности. Полупроводниковите тестови платки обикновено се разделят на платки със сонда и тестови натоварващи дъски. И борда за стареене; характеристиките на производствения процес обикновено имат: висок, висока дебелина, високо съотношение на страните, малко вътрешно пространство, електрическо дебело злато, отвор за смола, строг стандарт за деформация, специално пресоване и т.н., дъската е трудна , и има по-широко пространство за развитие на търсенето на пазара;
Настоящото производство на компанията' е съсредоточено главно върху тестова платка от 10-32 слоя, референтните проби са както следва:
Примерна картина Характеристики на процеса
16 слоя
Материал: S1000-2M
Обработка на повърхността: местно дебело злато (50U GG;)
Дебелина на дъската: 5,1 мм
Минимално вътрешно пространство: 0,2 мм
Толеранс на кримпващия отвор: + / - 0,05 мм
Деформация: ≤0,3%
32 слоя
Материал: S1000-2M
Обработка на повърхността: местно дебело злато (50U GG;)
Дебелина на дъската: 5,0 мм
Минимален отвор: 0,4 мм
Дупка за смола
Минимално вътрешно пространство: 0,17 мм
Деформация: ≤0,3%
Успешното въвеждане на полето за полупроводникови изпитателни платки е само част от разработката на компанията' на високо ниво, трудни, специални материали и специални процеси; в бъдеще ще продължи да има повече разработки на продукти от висок клас за по-добро обслужване на клиентите;